vFactory 是與 DDS、ALcad 並列的新區域，針對晶圓製程與晶圓廠。
視圖包括參考晶圓廠、製程模型、Design to wafer、EUV 計算與 EUV 片段。vFactory 支援全部 14 種語言。
參考晶圓廠
一座分為四層、擁有 300 台設備的邏輯晶圓廠。
參考晶圓廠會開啟一座擁有 300 台設備（包括四台 EUV 曝光機）的邏輯晶圓廠，分為四層：無塵室、風扇層、下夾層與公用設施層。可在 200 至 400 台設備之間選擇，或匯入晶圓廠模型檔案。
微影區
有文件記錄的假設
所有製程與廠房數值皆為有文件記錄的假設值，並非真實晶圓廠的資料。
2D 與 3D
從上方或以視線高度。
可在 2D 地圖上、在 3D 中、從上方或以視線高度瀏覽晶圓廠。
模擬
基於種子的晶圓廠模擬。
晶圓廠模擬使用種子，因此相同的種子會得到相同的結果。您可以匯入晶圓廠模型檔案並從頭到尾執行，包括預防保養時段與操作員休息時間。
- 可在晶圓廠場景中以 1× 至 100,000× 的速度重播已完成的模擬，並提供暫停、重新開始與時間滑桿。
- 重播會依引擎記錄的原樣顯示設備狀態、批次與設備之間的 FOUP 搬運。
Design to wafer
在 Design to wafer 中開啟佈局。
在 Cloud 專案的 GDS 佈局視圖中，Send to vFactory 會以該佈局開啟 Design to wafer。它會顯示 300 mm 晶圓圖、以缺陷密度作為標示假設的 Poisson、Murphy 與負二項良率估算、參考晶圓廠中的批次、生產週期與交期。
300 mm 晶圓圖
Poisson、Murphy 與負二項良率估算
Design: Caravel by efabless, Apache-2.0.
- 您可以在 3D 晶圓廠中追蹤一個批次，並將結果儲存至專案。
EUV 計算
從光源到晶圓。
EUV 計算會估算從光源到晶圓的光子與功率預算，包括 Mo/Si 多層膜反射鏡，並提供可編輯的預設集。此模型未經校準，且每項假設皆有標示。
視圖
探索晶圓廠。
產品選單
在產品選單中選擇 vFactory → 晶圓製程與製造；此項目先前位於 ALcad 之下。
以視線高度
用 W、A、S 與 D 行走，用 E 開門，並可走樓梯。
設備標籤與距離
跟隨導覽參觀各製程區、查看設備標籤並測量距離。
EUV 曝光機內部
在 3D 中查看 EUV 曝光機內部。其掃描運動依循 EUV 計算。
EUV 片段
EUV 片段會在您的裝置上計算 GDS 佈局片段的薄光罩空間像。
製程模型
兩個實測資料面板顯示以公開資料集建立的模型。它們是教學範例，並非您晶圓廠的模型。
已知限制
確認支援的工作流程。
- 支援 WebGPU 時，3D 視圖會以依您的 GPU 選擇的畫質等級進行擬真算繪。不支援 WebGPU 時，vFactory 會使用 Low 等級的 WebGL2；兩者皆不支援時則顯示 2D 平面圖。
- 在 EUV 片段中，尚無法使用 Cloud 成像。請在您的裝置上使用本機分塊。