vFactory 是与 DDS、ALcad 并列的新区域，面向晶圆制程与晶圆厂。
视图包括参考晶圆厂、制程模型、Design to wafer、EUV 计算与 EUV 片段。vFactory 支持全部 14 种语言。
参考晶圆厂
一座分为四层、拥有 300 台设备的逻辑晶圆厂。
参考晶圆厂会打开一座拥有 300 台设备（包括四台 EUV 光刻机）的逻辑晶圆厂，分为四层：洁净室、风机层、下夹层和公用设施层。可在 200 至 400 台设备之间选择，或导入晶圆厂模型文件。
光刻区
有文档记录的假设
所有制程与厂房数值均为有文档记录的假设值，并非真实晶圆厂的数据。
2D 与 3D
从上方或以视线高度。
可在 2D 地图上、在 3D 中、从上方或以视线高度浏览晶圆厂。
模拟
基于种子的晶圆厂模拟。
晶圆厂模拟使用种子，因此相同的种子会得到相同的结果。您可以导入晶圆厂模型文件并端到端运行，包括预防性维护窗口和操作员休息时间。
- 可在晶圆厂场景中以 1× 至 100,000× 的速度回放已完成的模拟，并提供暂停、重新开始和时间滑块。
- 回放会按引擎记录的原样显示设备状态、批次以及设备之间的 FOUP 搬运。
Design to wafer
在 Design to wafer 中打开版图。
在 Cloud 项目的 GDS 版图视图中，Send to vFactory 会用该版图打开 Design to wafer。它会显示 300 mm 晶圆图、以缺陷密度为标注假设的 Poisson、Murphy 与负二项良率估算、参考晶圆厂中的批次、生产周期与交付。
300 mm 晶圆图
Poisson、Murphy 与负二项良率估算
Design: Caravel by efabless, Apache-2.0.
- 您可以在 3D 晶圆厂中跟踪一个批次，并将结果保存到项目。
EUV 计算
从光源到晶圆。
EUV 计算会估算从光源到晶圆的光子和功率预算，包括 Mo/Si 多层膜反射镜，并提供可编辑的预设。该模型未经校准，且每项假设均已标注。
视图
探索晶圆厂。
产品菜单
在产品菜单中选择 vFactory → 晶圆制程与制造；该项以前位于 ALcad 之下。
以视线高度
用 W、A、S 和 D 行走，用 E 开门，并可走楼梯。
设备标签与距离
跟随导览参观各制程区、查看设备标签并测量距离。
EUV 光刻机内部
在 3D 中查看 EUV 光刻机内部。其扫描运动遵循 EUV 计算。
EUV 片段
EUV 片段会在您的设备上计算 GDS 版图片段的薄掩模空间像。
制程模型
两个实测数据面板展示基于公开数据集构建的模型。它们是教学示例，并非您晶圆厂的模型。
已知限制
确认支持的工作流程。
- 支持 WebGPU 时，3D 视图会以为您的 GPU 选择的画质等级进行逼真渲染。不支持 WebGPU 时，vFactory 使用 Low 等级的 WebGL2；两者都不支持时则显示 2D 平面图。
- 在 EUV 片段中，Cloud 成像尚不可用。请在您的设备上使用本地分块。