vFactory

Reference fab, simulation à graine et Design to wafer.

Windows · Linux · Cloud

3D, vue de dessus

vFactory est un nouvel espace, à côté de DDS et ALcad, dédié aux procédés sur wafer et aux fabs.

Ses vues sont Reference fab, Process models, Design to wafer, EUV calculation et EUV clip. vFactory est disponible dans les 14 langues prises en charge.

Reference fab

Une fab logique de 300 équipements sur quatre niveaux.

Reference fab ouvre une fab logique de 300 équipements, dont quatre scanners EUV, sur quatre niveaux : salle blanche, niveau des ventilateurs, sous-fab et niveau des utilités. Choisissez entre 200 et 400 équipements ou importez un fichier de modèle de fab.

Zone de lithographie

Zone de lithographie

Hypothèses documentées

Hypothèses documentées

Toutes les valeurs numériques de procédé et de bâtiment sont des hypothèses documentées, et non des données issues d’une fab réelle.

2D et 3D

Vue de dessus ou à hauteur des yeux.

Explorez la fab sur une carte 2D, en 3D, vue de dessus ou à hauteur des yeux.

Partie de la zone de gravure sur la carte 2D

Simulations

Simulations de fab à graine.

Les simulations de fab utilisent une graine : une même graine donne le même résultat. Vous pouvez importer un fichier de modèle de fab et l’exécuter de bout en bout, y compris les fenêtres de maintenance préventive et les pauses des opérateurs.

Design to wafer

Ouvrez un layout dans Design to wafer.

Dans la vue de layout GDS d’un projet Cloud, Send to vFactory ouvre Design to wafer avec ce layout. Elle affiche une carte de wafer de 300 mm, des estimations de rendement selon Poisson, Murphy et la loi binomiale négative, avec la densité de défauts comme hypothèse indiquée, les lots dans la Reference fab, le temps de cycle et la livraison.

Design to wafer
Carte de wafer de 300 mm

Carte de wafer de 300 mm

Estimations de rendement selon Poisson, Murphy et la loi binomiale négative

Estimations de rendement selon Poisson, Murphy et la loi binomiale négative

Design: Caravel by efabless, Apache-2.0.

EUV calculation

De la source au wafer.

EUV calculation estime les bilans de photons et de puissance de la source au wafer, y compris les miroirs multicouches Mo/Si, avec des préréglages modifiables. Le modèle n’est pas calibré, et chaque hypothèse est indiquée.

Vues

Explorez la fab.

Menu des produits

Menu des produits

Dans le menu des produits, choisissez vFactory → Wafer Process & Fab, auparavant sous ALcad.

À hauteur des yeux

À hauteur des yeux

Déplacez-vous avec W, A, S et D, ouvrez les portes avec E et empruntez les escaliers.

Étiquettes des équipements et distances

Étiquettes des équipements et distances

Suivez une visite guidée des zones de procédé, lisez les étiquettes des équipements et mesurez des distances.

À l’intérieur d’un scanner EUV

À l’intérieur d’un scanner EUV

Regardez à l’intérieur d’un scanner EUV en 3D. Son mouvement de balayage suit EUV calculation.

EUV clip

EUV clip calcule sur votre appareil une image aérienne à masque mince pour un extrait de layout GDS.

Process models

Deux panneaux de données mesurées présentent des modèles construits à partir de jeux de données publics. Ce sont des exemples pédagogiques, et non des modèles de votre fab.

Limitations connues

Consultez les flux de travail pris en charge.

  • Avec WebGPU, les vues 3D utilisent un rendu réaliste à un niveau de qualité choisi pour votre GPU. Sans WebGPU, vFactory utilise WebGL2 au niveau Low et, sans l’un ni l’autre, affiche le plan 2D.
  • Dans EUV clip, le calcul d’images dans Cloud n’est pas encore disponible. Utilisez le tuilage local sur votre appareil.

vFactory, pour les procédés sur wafer et les fabs.